시노펙스에 따르면 이번에 개발한 UPE필터는 반도체 생산의 핵심공정인 PR(포토레지스트) 공정에 사용되는 제품으로 PR케미컬의 불순물을 걸러주는 역할을 하는 필터다.
시노펙스는 이번 제품에 성인 평균 머리카락 굵기의 1000분의 1에 해당하는 △100나노급 미세 기공사이즈 구현 △멤브레인 강화기술 △리크 예방 기술 등을 적용해 100% 완전성 검사를 통해 자체기술로 개발하는데 성공했다.
노시갑 시노펙스 부사장은 “시노펙스는 전처리 공정에 사용하는 POU필터, CMP 필터를 국산화해 삼성전자에 공급하고 있다. 그 동안 멤브레인 필터의 지속적인 기술 개발을 통해 반도체 생산에 가장 핵심으로 분류되는 PR공정용 필터국산화에도 성공했다”며 ”PR공정용 100나노급 필터는 기존 일본과 미국회사에서 전량 수입하는 상황에서 이번에 핵심필터 국산화를 통해 한국 반도체 산업경쟁력 강화에 일조할 수 있게 됐다”고 말했다.
시노펙스는 첨단 반도체 생산라인에 사용되는 고성능 필터를 마스크에 적용한 프리미엄급 제품을 개발해 ‘시노텍스’라는 브랜드로 판매하고 있다. 이번 100나노급 필터 개발을 기념하여 반도체용 필터와 마스크를 함께 전시회에 선보이고 있으며 오는 7일 스마트비즈엑스포 사무국에서 후원하는 네이버 라이브 방송을 통해 할인이벤트를 진행할 계획이다.